セッション分野

ENG(エンジニアリング)

セッション関連分野

VA

セッション難易度

求められるスキル

リアルタイムCGにおけるポストプロセスに興味のある方
リアルタイムCGにおける光学(レンズ)効果・収差などの表現に興味のある方
ポストプロセスの開発向け・デバッグ向け便利機能に興味のある方
ミドルウェアとしての「YEBIS」やその進化に興味のある方

得られる知見

現行の「YEBIS 3」から「YEBIS 4」への進化の概要
「YEBIS 4」でしか表現できない光学エフェクト
開発に利用できるさまざまな便利機能の詳細

写真撮影 / SNS投稿

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2024年のCEDECでも紹介したYEBISの次期バージョン「YEBIS 4」が、いよいよこの夏リリース！ 本セッションでは、リアルタイム3DCGにおける光学表現・ポストエフェクトの最前線を支えるYEBIS 4の進化を、開発・デバッグ向け機能も含めて徹底解説します。
大幅に表現力の向上した被写界深度ボケ、レンズフレア、レンズ収差などのエフェクトに加え、収差グラフ表示、カラー情報モニタ、解像度やエフェクトの流れとパフォーマンスが一目瞭然となるパイプライン表示、既存のアップサンプル技術との効率的な連携や自由度の高いスケーリングフローなど、開発とデバッグに利用できるさまざまな便利機能をデモを交えて紹介。
昨年ご参加いただいた方にも新情報満載でお届けします！