第12会場

8月23日(金)

15:00 〜 16:00

レギュラーセッション(60分)

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待望のNewバージョンを徹底解説!レンズ効果にこだわり続けるポストエフェクトミドルウェア「YEBIS」

川瀬 正樹 向井 亨光
セッション分野
ENG (エンジニアリング)
セッション関連分野
VA
セッション難易度
受講スキル
リアルタイムCGを使った映像制作に興味のある方
デザイナー、CG映像制作者、製造業、建築ビジュアライゼーション等に関わる方
得られる知見
ポストプロセスで付加できる最新のレンズエフェクト技術の機能と効果について
写真撮影 / SNS投稿
通訳の種類
なし
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セッション内容

『YEBIS(エビス)』はコンピューターグラフィックスに対し、カメラの絞りやレンズ特性による被写界深度、グレアなど、正確で高品質な光学効果を特徴とする、多彩なポストエフェクトを適用可能なミドルウエアです。2006年に最初のバージョンを発表して以降、これまで2度のメジャーバージョンアップを図りながら世界中のAAAゲームタイトルや映像コンテンツに採用されてきました。
その『YEBIS』が誇るレンズエフェクトの品質をさらに極めた次期バージョンが間もなく誕生しようとしています。
このセッションでは、次期バージョンで強化されるポイントや産業分野向けの映像制作を想定したUnreal Engineプラグイン「YEBIS Biz(エビス ビズ)」に至るまで、最新情報をどこよりも詳しくお伝えする予定です。

講演者